業界ニュース

2018/05/25

Samsung、3nm「GAA FET」の量産を 2021 年内に開始か

Samsung Electronics は、米国カリフォルニア州サンタクララで 2018 年 5 月 22 日 (現地時間) に開催したファウンドリー技術の年次フォーラムで、FinFET の後継アーキテクチャとされる GAA (Gate All Around) トランジスタを 2021 年に 3nm ノードで量産する計画を発表した。 [続きを読む]
提供元 : EE Times Japan

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