大日本印刷 (DNP) は、EUV (極端紫外線) リソグラフィに対応する、2nm 世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に始めた。2025 年度までに開発を終えて、2027 年度には量産を始める予定。 [続きを読む]