ウシオ電機は 2019 年 7 月 17 日、検査装置メーカーから受注している複数の EUV リソグラフィマスク検査装置用 EUV (Extreme ultraviolet: 極端紫外線) 光源のうち、量産プロセス向け EUV 光源が初めて検収された、と発表した。同社は、「今回の検収により、次世代半導体製造工程の量産プロセスに必要な、高輝度 EUV 光を使用した "Actinic" な EUV リソグラフィ用マスク検査が可能になる」としている。 [続きを読む]