2019/05/21
CMOS プロセスで製造できるマイクロ LED、Leti が開発
米国カリフォルニア州サンノゼで開催された「Display Week 2019」(2019 年 5 月 14 ~ 16 日) では、研究機関の Leti が、GaN (窒素ガリウム) マイクロ LED ディスプレイを、CMOS プロセスで製造する新しい技術について説明した。 [続きを読む]
提供元 : EE Times Japan