2022/12/21
Webセミナー「ウェーハ―の品質・歩留まりを最適化するCMPプロセスにおける連続濃度モニタリング」/ ヴァイサラ
| 主催会社 | ヴァイサラ株式会社 |
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| イベント名 | Webセミナー「ウェーハ―の品質・歩留まりを最適化するCMPプロセスにおける連続濃度モニタリング」 |
| 開催日時 | 2022年12月21日（水）15:00 ～ 16:00 |
| 会場 | Webセミナー |
| 視聴費 | 無料 |
| 内容 |
このWebセミナーでは、屈折率計を使用した半導体製造工程におけるCMPプロセス最適化のアプリケーションを解説していきます。半導体製造工程におけるCMPプロセスは、安定した製品品質を保つために、非常に高精度なCMPスラリーの濃度管理が必要になります。気泡の影響を受けることなく、腐食性溶液の測定が可能な計器が欠かせません。屈折率計の原理とヴァイサラ屈折率計の特徴を踏まえ、このようなCMPプロセスにおける使用用途を紹介します。
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| 主催者の申込みページ | こちら⇒https://www.vaisala.com/ja/events/webinars/lp/1221LM_Semicon |
| 対象 |
半導体製造装置メーカーの技術者、半導体メーカーの品質管理担当者 総合設備工事、産業空調、生産施設担当者 ※競合他社の方はご遠慮お願いしております。ご登録頂いても視聴をお断りする場合があります |
| その他 |
【講演者】 ヴァイサラ株式会社 インサイドセールスエンジニア 夏井 敬史 様 【視聴方法】 本ページ内のお申し込みフォームを入力の上、送信してください。追って視聴用URLをメールにて送付致します。 |