微細化が進む半導体製造プロセスにおいては、材料由来のわずかな差異が性能や歩留まりに大きな影響を与えます。本ウェビナーでは、質量分析を用いたフォトレジストポリマーの組成・構造解析と、洗浄液中に含まれる微量不純物検査の分析事例を紹介します。またスペクトル解釈を可視化するケンドリックマスディフェクト（KMD）解析や､機械学習を用いたAI構造解析により、高度な分析を簡便に実現する分析フローについて解説します。

本セミナーは、WEB上で開催されます。WEBに接続できる環境であれば、パソコンからだけでなく、スマートフォンやタブレットからも参加することができます。皆さまのご参加をお待ちしております。

• フォトレジストポリマーの組成・構造解析における質量分析の活用法
• 洗浄液中の微量不純物を高感度に評価する分析手法
• KMD解析やAI構造解析を用いた効率的な分析フロー

• 半導体の材料開発・評価に携わる方
• フォトレジストやプロセスケミカルの分析・品質管理を担当されている方
• 質量分析を用いた有機材料解析の効率化・高度化に関心のある方

• JMS-T2000GC AccuTOF™ GC-Alpha 2.0 ガスクロマトグラフ飛行時間質量分析計
• JMS-S3000 SpiralTOF™-plus 3.0 マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間質量分析計
• 未知物質構造解析ソフトウェア msFineAnalysis AI
• ポリマー解析用ソフトウェア msRepeatFinder

日本電子株式会社
SI事業部門 MS事業ユニット MSアプリケーショングループ

講演後のアンケートにご記入いただくとダウンロードができます。

後日講演録画をウェビナーアーカイブに掲載します。
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講演終了後に質疑応答の時間を設けています。
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