SEM観察において試料作製、特に断面出しは観察結果を大きく左右する重要な要素です。適切な断面出しを行うことで、より高精細かつ信頼性の高いSEM像の取得が可能となります。

本発表では昨年度リリースしました最新型クロスセクションポリッシャ™(CP)の特長をご紹介するとともに、新たに対応可能となった冷却ミリング機能、位置合わせ顕微鏡などのオプションをご紹介いたします。
装置導入をご検討中の方はもちろん、既に活用されている方にも有益な内容となっております。

本セミナーは、WEB上で視聴期間限定のオンデマンド形式で開催いたします。視聴期間内であればお客様のご都合に合わせていつでもどこでもご視聴いただけます。皆さまのご参加をお待ちしております。

• 新型CPについて
• CPのオプションについて
• CPの活用事例

• SEMの前処理装置に興味のある方
• これからCPを検討されている方
• 既にCPを活用中の方

• JSM-IT810 ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡
• IB-19540CP クロスセクションポリッシャ™
  IB-19550CCP 冷却クロスセクションポリッシャ™
• JCM-7000 NeoScope™ 卓上走査電子顕微鏡
• JSM-IT210 走査電子顕微鏡
• JSM-IT510 InTouchScope™ 走査電子顕微鏡
• JSM-IT710HR 走査電子顕微鏡

日本電子株式会社
SI営業本部　国内SI営業部　大阪SI第2グループ

発表資料の配布は行いません。

後日講演録画をウェビナーアーカイブに掲載します。
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講演終了後の質疑応答は行いません。