2026/06/26
レゾナック、半導体向け高純度 HF ガスを徳山で製造開始へ
AI やデータセンター向け用途での採用拡大を背景に、半導体の 3 次元積層構造の採用が進む中、微細な回路形成を可能にする「クライオエッチング」が注目されている。そこで、レゾナックはこの先端技術に必要な高純度フッ化水素ガスの需要増に対応するため、徳山事業所での新規製造を決定した。 [続きを読む]
提供元 : MONOist

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