2026/01/26 シェア ウエハーの凹凸を 5nm 以下に抑制、キヤノンが平たん化技術を実用化 キヤノンは、NIL 技術を応用してウエハーを平たん化する IAP 技術を実用化した。インクジェット方式で樹脂を最適配置することで、ウエハー表面の凹凸を 5nm 以下に抑制できる。 [続きを読む] 提供元 : MONOist
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