2025/09/30 シェア 測長再現性が 20% 以上向上した、2nm ノード対応のマスク用 CD-SEM アドバンテストは、半導体製造に不可欠なフォトマスクや EUV マスクの寸法を測定する CD-SEM「E3660」を発売した。従来機比で測長再現性を 20% 以上高めており、2nm ノード以降の厳しい測定要求に応える。 [続きを読む] 提供元 : MONOist
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