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富士フイルムが PFAS フリー ArF 液浸レジストを開発 28nm の金属配線に対応

富士フイルムは、先端半導体の製造プロセス向け環境配慮型材料として、有機フッ素化合物 (PFAS) 不使用のネガ型 ArF 液浸レジストを開発した。 [続きを読む]

提供元 : MONOist

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