2026/07/29 シェア JX 金属、半導体用スパッタリングターゲットの加工能力を 2 倍に JX 金属は、韓国 JX 金属で約 40 億円の設備投資を行い、「半導体用スパッタリングターゲット」の加工能力を増強する。増強部分は 2027 年度下期の稼働を予定していて、生産能力は 2025 年度に比べ約 2 倍に増える。 [続きを読む] 提供元 : EE Times Japan
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