2026/07/16 シェア Intel が高 NA EUV 露光装置を量産導入 Intel 18A の一部レイヤーに適用 ASML は 2026 年 7 月 15 日 (オランダ時間)、Intel Foundry が ASML の高開口数 (NA) EUV (極端紫外線) 露光装置を用いて製造したロジック半導体の量産出荷を開始したと発表した。 [続きを読む] 提供元 : EE Times Japan
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