2026/07/15
Tower が日本 2 拠点でシリコンフォトニクス生産強化へ 新井工場を再整備
Tower Semiconductor (以下、Tower) は 2026 年 7 月 14 日、日本国内における 300mm シリコンフォトニクス (SiPho)、シリコンゲルマニウム (SiGe) および先端パッケージングの研究開発および製造能力を拡充すると発表した。 [続きを読む]
提供元 : EE Times Japan

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