2026/03/19 シェア 高 NA EUV を「産業規模へ拡張」、imec が EXE:5200 導入 imec が ASML の高開口数 (NA) 極端紫外線 (EUV) 露光装置「TWINSCAN EXE:5200」を受領したと発表した。ベルギー・ルーベンにある imec の 300mm クリーンルームに導入する。 [続きを読む] 提供元 : EE Times Japan
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