キヤノンは、ナノインプリントリソグラフィ (NIL) 技術を応用し、ウエハーを平たん化する「IAP (Inkjet-based Adaptive Planarization)」技術を開発した。2027 年中にも製品化する予定だ。300mm ウエハー全面を一括押印すれば、製造工程で生じる表面の凹凸を 5nm 以下に抑えられる。 [続きを読む]