2025/12/17
EUV 露光に残された課題――ペリクルの現在地と展望とは
2025 年 11 月に都内で開催された imec のフォーラム「ITF Japan 2025」から、三井化学による極端紫外線 (EUV) 露光用ペリクル (保護膜) の講演を解説する。最先端の半導体製造に不可欠な EUV 露光だが、実は、ペリクルに関しては依然として多くの課題がある。三井化学はそれをどう解決しようとしているのか。 [続きを読む]
提供元 : EE Times Japan

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