2025/12/17 シェア EUV 露光に対応する 300mm ウエハー塗布/現像装置、TEL 東京エレクトロン (TEL) が、極端紫外線 (EUV) や深紫外線 (DUV) を用いた露光プロセスに対応できる 300mm ウエハー塗布/現像装置「CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE」を発売する。 [続きを読む] 提供元 : EE Times Japan
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