2025/09/29 シェア 高品質スズペロブスカイト薄膜の作製方法を開発 京都大学化学研究所の研究グループは、高品質のスズペロブスカイト半導体薄膜を作製するための塗布成膜法を開発した。この成膜方法は汎用性が高いうえに、大面積基板への塗工にも適用できるという。 [続きを読む] 提供元 : EE Times Japan
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