2025/09/08 シェア DRAM 市場首位の SK hynix、量産用高 NA EUV 初導入で競争力強化 SK hynix が量産用の高 NA (開口数) EUV (極端紫外線) 露光装置「TWINSCAN EXE:5200B」を韓国・利川市のファブ「M16」に導入した。 [続きを読む] 提供元 : EE Times Japan
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