2025/06/25
InP 系結晶薄膜素子を 300mm シリコンウエハーに転写
OKI は、素子にダメージを与えることなく異種材料集積を可能にするタイリング「CFB」技術を開発した。実験では直径 50mm (2 インチ) の InP ウエハー上に形成した InP 系結晶薄膜素子を剥離し、300mm (12 インチ) シリコンウエハー全面への転写に成功した。 [続きを読む]
提供元 : EE Times Japan

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