2025/01/31
UV ナノインプリントによるシリコンフォトニクスプロセスを開発
東京科学大学と東京応化工業は、UV ナノインプリントリソグラフィー (UV-NIL) を用いたシリコンフォトニクス半導体プロセスを開発した。開発した光硬化性樹脂と同プロセスを用いて試作したシリコン導波路は、電子線描画を用いて作製した光導波路と同等レベルの性能が得られることを確認した。 [続きを読む]
提供元 : EE Times Japan