2021/04/09 シェア 3D NAND フラッシュの製造歩留まりを高める 2 段階積層 今回は、3D NAND フラッシュの製造工程の中で最も困難とされる、「メモリスルーホール」の形成プロセスに関する講演部分をご報告する。 [続きを読む] 提供元 : EE Times Japan