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防じんマスク性能試験装置 AP-9200NW型

形名:AP-9200NW
AP-9200NW 防じんマスク性能試験装置 AP-9200NW型 柴田科学
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  • 画像は同一シリーズのものを掲載している場合があります。

商品説明

●原子力発電所で使用の防じんマスク性能の総合検査および管理に適します。
●マイクロコンピューターによる自動制御、パーソナルコンピューターにより操作、記録、集計などが自動化されます。
●労働安全衛生法に基づく防じんマスクの性能試験(H12年改正)に沿った試験が行えます。

商品スペック

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【測定原理】粉じん捕集効率:光散乱光量積分方式 (デジタル粉じん計) 通気抵抗:可変静電容量センサー式微差圧計
【測定対象】防じんマスク(全面・半面)と吸収缶
【測定範囲】粉じん捕集効率:0~99.99% 通気抵抗:0~1999Pa
【測定精度】±1%以内
【測定感度】上流1CPM=1μg/m3、1Pa
【測定項目】粉じん捕集効率、吸気抵抗
【Nacl粒子】幾何立法体相当径=0.06~0.1μm 幾何標準偏差σg=1.8以内 発生濃度約30±5mg/m3
【集計項目】試験体の種類、名称、番号、上流・下流濃度、 捕集効率、吸気抵抗、良否判定 試験体の履歴追跡
【記録計】上流・下流濃度
【試験空気量】吸引流量max.85L/min(Normal) 圧縮空気0.5~1.0MPa500NL/min
【測定原理】粉じん捕集効率:光散乱光量積分方式 (デジタル粉じん計) 通気抵抗:可変静電容量センサー式微差圧計
【測定対象】防じんマスク(全面・半面)と吸収缶
【測定範囲】粉じん捕集効率:0~99.99% 通気抵抗:0~1999Pa
【測定精度】±1%以内
【測定感度】上流1CPM=1μg/m3、1Pa
【測定項目】粉じん捕集効率、吸気抵抗
【Nacl粒子】幾何立法体相当径=0.06~0.1μm 幾何標準偏差σg=1.8以内 発生濃度約30±5mg/m3
【集計項目】試験体の種類、名称、番号、上流・下流濃度、 捕集効率、吸気抵抗、良否判定 試験体の履歴追跡
【記録計】上流・下流濃度
【試験空気量】吸引流量max.85L/min(Normal) 圧縮空気0.5~1.0MPa500NL/min
【制御方式】シーケンス制御:マイクロコンピューター 総合制御と演算統計処理:パーソナルコンピューター
【測定時間】120秒(正味)
【寸法・質量】NaCl粒子発生部570(W)×840(D)×1830(H)、約210 測定部570(W)×1240(D)×1830(H)、約210 記録演算部670(W)×590(D)×1260(H)、約60

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